跳到正文
EDA前沿EDA FRONTIER

2026 年 11 月 3 日 · 星期二

本期文章 4

返回刊物 ↗
  • UT Austin 提出 APPlace,联合优化模拟布局器件位置与接入点

    得克萨斯大学奥斯汀分校发布论文 APPlace,在模拟全局布局阶段联合优化器件位置与接入点(AP)选择,并保留合法化阶段以维持全局布局建立的结构。作者指出,模拟电路的布线引脚是一段延伸的端子金属而非固定点,最佳接入点取决于相连器件的摆放位置,仅优化坐标会让布线器用不到所优化的连接点。在四个真实模拟基准上,APPlace 在相近布局面积下取得优于代表性基线的整体后布局性能;消融实验显示,去掉 AP 联合优化会使 OTA 基准的 CMRR 最多下降 13 dB,比较器延迟增加 23%。

  • Silvaco 网络研讨会:用 FTCO™ 代理模型探索 GAA NSFET 设计空间

    Silvaco 举办网络研讨会,演示面向 GAA NSFET 的完整 FTCO™ 工作流,覆盖从纳米片形成工艺仿真到器件仿真,并用 Victory DoE 与 Victory Analytics 将少量高保真仿真转化为 AI 代理模型。