华为黄宇：韬定律最大挑战在于 EDA 工具
华为半导体 EDA 首席科学家黄宇在 2026 湾芯展上表示，华为韬定律最大挑战在于 EDA 工具，工艺、工程和系统设计挑战同样存在。韬定律分器件层、链路层、芯片层和系统层四层，其中链路层是最大创新点，系统层涉及超级节点与机柜互联。
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每日经济新闻AI 评分2222
Siemens Questa / Verification Horizons 官方博客AI 评分2020 Siemens EDA 将在 DVCon India 2026 发表演讲：验证的未来与通往硅置信的一条路径
Siemens EDA 设计验证技术高级副总裁兼总经理 Abhi Kolpekwar 将在 DVCon India 2026 的 Vision Talk 中探讨验证问题的变化，题为“The Future of Verification—One Path to Silicon Confidence”。
芯华章AI 评分3232 所有人都在做 IC Agent，到底谁有护城河？
芯华章转载文章提出 IC Agent 的“五层地权图”，从设计意图、工程资产、工具引擎、流程闭环到 signoff 信任层划分工程控制点。文章认为护城河不在模型参数，而在谁能把 triage、RCA、repair、rerun 与证据链接入真实项目流程，并留下可复查、可复用、可签字的结果。
CHIPS AllianceAI 评分2222 CHIPS Alliance 执行董事 Rob Mains 谈开源硅的信任、工具与未来
CHIPS Alliance 执行董事 Rob Mains 在开发者访谈中回顾从 IBM 到 Oracle 的硅开发全栈经历，提出开源硅应聚焦各方共需的基础组件，让企业把资源投向差异化创新。他以 Caliptra 为例称开源硬件 IP 已能设计、集成进 SoC 并量产部署，生产就绪需靠多次流片与持续使用来证明。他指出 DRC 与形式验证仍需与代工厂深化协作，规模化协作的最大障碍是信任而非技术。
CHIPS AllianceAI 评分2222 CHIPS Alliance TAC 主席 Aaron Cunningham 谈开源硅协作的治理与项目健康
CHIPS Alliance 技术咨询委员会（TAC）主席、Google 技术项目经理 Aaron Cunningham 将工作重心放在治理文档、项目生命周期与沙箱定义等基础结构上，而非编写 HDL。