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NEWS / 动态

#TCAD

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今天11月3日周二1 条
10月21日周三
9月15日周二
  1. 培风图南42
    培风图南的报道配图

    培风图南在IDAS 2026发布基于TCAD的虚拟工艺平台

    培风图南在IDAS 2026主论坛发布基于TCAD的虚拟工艺平台,该平台属EDA²创新基础设施,覆盖化学机械抛光、沉积、光刻、刻蚀、离子注入、热退火等完整工艺流程,实现从校准到预测再到优化的正向研发闭环。公司称其MozzTCAD是国内唯一支持FinFET、Nanosheet的3D TCAD仿真工具,已通过行业龙头客户验收,并在部分场景实现对国际标杆产品的性能反超。

9月1日周二
7月25日周六
  1. 培风图南22
    培风图南的报道配图

    培风图南在半导体分立器件年会展示制造类EDA软件与功率模组多物理场耦合仿真

    培风图南在第二十届中国半导体行业协会半导体分立器件年会上展示全系列制造类EDA软件,并作《半导体功率模组的电-热-力多物理场耦合仿真:从芯片精细损耗到全生命周期寿命预测》专题报告。报告基于Mozz TCAD平台,展示从芯片级精细损耗建模、封装结构热力耦合分析到全生命周期寿命预测的技术路径,针对焊层疲劳、键合线脱落等失效模式提供预测性仿真思路。

5月26日周二
  1. 培风图南42

    培风图南 Mozz TCAD 2026.04 版本发布

    上海培风图南半导体发布 TCAD 套件 Mozz TCAD 2026.04 版本,在仿真效率、求解稳定性、模型精度和操作便利性上均有提升。器件仿真工具 Mozz Device 新增 MixMode 混合模式仿真能力,将分析范围从器件级延伸至电路级,缩短从工艺建模到系统验证的设计迭代周期。该套件覆盖工艺仿真、三维工艺形貌仿真、器件仿真、参数提取、可视化及集成工作平台。

5月20日周三
  1. IEEE TCAD62

    面向近 1 K 低温 IC 的商用体 CMOS PDK 几何可扩展 DC I–V 校准方法

    研究提出一套针对低温 CMOS 集成电路设计的商用 PDK 校准方法,基于基线 PDK 采用的 PSP 紧凑模型,通过几何感知的参数调节流程,用低温 DC 测量校准多种器件几何下的低温 DC I–V 特性,并保持与标准 EDA 工具链兼容。作者据此校准商用 28 nm 体 CMOS PDK 中的一组调谐点器件,构建出原型低温 PDK,并在 1.58 K 下用调谐点器件和未参与调谐的交叉点器件评估预测精度。

    推荐理由:论文给出面向 1 K 附近低温 CMOS 的商用 PDK 校准流程,并报告跨器件几何的漏极电流误差下降幅度。

5月18日周一
  1. IEEE TCAD38

    基于CNTFET的非平衡三进制全加器架构:设计与应用

    该文提出一种采用多阈值碳纳米管场效应晶体管(CNTFET)技术、由42个晶体管实现的三进制全加器(TFA)架构。Synopsys HSPICE在0.9 V下的电路级仿真显示,与现有先进设计相比,该TFA功耗降低35.8%–75.2%、能耗降低21.6%–70%,蒙特卡洛仿真表明其对关键CNTFET工艺参数变化的敏感度最低,代价是适度的延迟开销和布局面积增至1.85倍。

5月8日周五
  1. 培风图南25
    培风图南的报道配图

    ISEDA 2026 | 培风图南亮相新加坡,展示2nm TCAD与DTCO方案

    培风图南在ISEDA 2026发表技术报告,提出面向2nm及以下节点的现代化TCAD路线图,通过GPU加速计算架构与可处理多尺度、多物理场耦合的新型求解器提升仿真效率。公司还展示了将先进仿真工具整合进新一代协同优化DTCO体系、构建可扩展AI仿真预测平台的方案。新加坡国立大学Yee-Chia Yeo教授到访展台并为公司2nm TCAD及DTCO领域创新背书。

2025年11月24日周一