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为何曲线型 OPC 需要全新的优化方法
Why curvilinear OPC demands a new optimization approach
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随着半导体进入 sub-5 nm 节点，曲线型掩模特征使传统将碎片化位点与 EPE 锚点刚性耦合的 OPC 方法失效，团队被迫在掩模数据膨胀与 EPE 控制之间取舍。
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